特許

J-GLOBAL ID：200903075213209774

マイクロ波プラズマ処理装置

発明者： 秋元 健司
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-312418
公開番号（公開出願番号）：特開平7-169740
出願日： 1993年12月14日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】マイクロ波を用いるプラズマ処理装置に於いて、チャンバ1内でのプラズマ均一性を任意に制御すること。【構成】マイクロ波プラズマ処理装置における上部電極2Aのは、複数のマイクロ波放射口13のそれぞれ独立に変えるシャッター14および操作部15を備え、このシャッター14でこれらのマイクロ波放射口13からチャンバ1に導入されるマイクロ波の強度分布を制御する。

請求項（抜粋）：

処理室内の被処理基板を載置する第1の平板状電極に対し平行に配設されるとともにマイクロ波を導出する複数のマイクロ波放射口を有する第2の平板状電極を備えるマイクロ波プラズマ処理装置において、複数の前記マイクロ波放射口のそれぞれの開口面積を独立に変える開口度可変機構を備えることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-209484
  
• 特開平4-217318
  
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-289746   出願人：株式会社日立製作所