特許
J-GLOBAL ID:200903075232164099
フラーレン系インターカレーション化合物薄膜の形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
舘野 千惠子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-105993
公開番号(公開出願番号):特開平6-298598
出願日: 1993年04月09日
公開日(公表日): 1994年10月25日
要約:
【要約】【目的】 フラーレンのインターカレーション化合物薄膜を高品質かつ均一に形成する方法を提供する。【構成】 数分子層のフラーレン薄膜と数分子層の別の元素薄膜を交互に蒸着してフラーレン薄膜と異元素薄膜の超格子構造を作製し、その後、加熱・拡散させてインターカレーション化合物薄膜を形成する。
請求項(抜粋):
数分子層のフラーレン薄膜と、数分子層の別の元素薄膜とを交互に蒸着してフラーレン薄膜と異元素薄膜の超格子構造を形成し、次いで加熱・拡散させることを特徴とするフラーレン系インターカレーション化合物薄膜の形成方法。
IPC (3件):
C30B 29/02
, C01B 31/02 ZAA
, C01B 31/02 101
引用特許:
審査官引用 (3件)
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炭素クラスター電導体膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-043287
出願人:住友電気工業株式会社
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特開平3-116791
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特開平3-173186
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