特許
J-GLOBAL ID:200903075260812748
パターン形成材料およびパターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-308679
公開番号(公開出願番号):特開2004-144925
出願日: 2002年10月23日
公開日(公表日): 2004年05月20日
要約:
【課題】被処理基板上に微細パターンを加工する際に、レジストの下面および上面に光吸収熱変換層を配し、熱によるレジストの加工を行うことで高アスペクト比の微細パターン加工を可能とする。【解決手段】被処理基板上に形成された光および熱感応性物質層と、前記光および熱感応性物質層の第1の側である前記被処理基板と前記光および熱感応性物質層の間に形成された第1の光吸収熱変換層と、前記第1の側から前記光および熱感応性物質層をはさんで対向する第2の側に形成された第2の光吸収熱変換層とを含むことを特徴とするパターン形成材料。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被処理基板上に形成された熱感応性物質層と、
前記熱感応性物質層と前記被処理基板との間に形成された第1の光吸収熱変換層と、
前記熱感応性物質層の前記第1の光吸収熱変換層が存在しない側に設けた第2の光吸収熱変換層とを有し、
前記第1の光吸収熱変換層と前記第2の光吸収熱変換層が前記熱感応性物質層を挟む構造としたことを特徴とするパターン形成材料。
IPC (5件):
G03F7/11
, G03F7/004
, G03F7/38
, G11B7/26
, H01L21/027
FI (6件):
G03F7/11
, G03F7/004 505
, G03F7/38 501
, G03F7/38 511
, G11B7/26 501
, H01L21/30 502R
Fターム (31件):
2H025AA03
, 2H025AB14
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025CC11
, 2H025DA40
, 2H025FA01
, 2H025FA12
, 2H025FA15
, 2H096AA25
, 2H096AA28
, 2H096BA01
, 2H096BA09
, 2H096DA02
, 2H096EA02
, 2H096EA03
, 2H096EA04
, 2H096EA12
, 2H096FA02
, 2H096GA01
, 5D121BA03
, 5D121BA05
, 5D121BB05
, 5D121BB21
, 5D121BB32
, 5D121BB34
, 5D121GG02
引用特許:
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