特許
J-GLOBAL ID：200903075283252820
マイクロレンズの製造方法、グレースケールマスク、グレースケールマスクの製造方法、物品の製造方法、および、マイクロレンズアレイの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三品 岩男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-300302
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107209
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】高解像度で所望の形状のマイクロレンズを製造することのできる方法を提供する。【解決手段】主平面方向に複数段階の透過率分布を有するグレースケールマスクを通してレジスト層を露光した後、現像することにより、所望のマイクロレンズに対応した立体形状に前記レジスト層を加工し、レジスト層をエッチングマスクとして、レンズ基材をエッチングする。グレースケールマスクは、透明基板と該透明基板上に配置された遮光層とを含み、遮光層には、予め定めた一定の大きさの複数の開口71が配置され、開口の密度により、主平面方向の透過率分布が形成されている。
請求項（抜粋）：
主平面方向に複数段階の透過率分布を有するグレースケールマスクを通してレジスト層を露光した後、現像することにより、所望のマイクロレンズに対応した立体形状に前記レジスト層を加工する工程と、前記レジスト層をエッチングマスクとして、レンズ基材をエッチングする工程とを含み、前記グレースケールマスクは、透明基板と該透明基板上に配置された遮光層とを含み、前記遮光層には、予め定めた一定の大きさの複数の開口が配置されていることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
IPC (3件)：
G02B 3/00
, G03F 1/08
, G03F 7/20 501
G02B 3/00 Z
, G02B 3/00 A
, G03F 1/08 D
, G03F 7/20 501
2H095BB02
, 2H095BB05
, 2H095BC04
, 2H097GB01
, 2H097JA02
, 2H097JA03
, 2H097LA15
, 2H097LA17
