特許

J-GLOBAL ID：200903075378372564

現像液組成物およびその製造方法、ならびにレジストパターンの形成方法

発明者： 石川 薫 ,  三隅 浩一 ,  斎藤 宏二
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-230978
公開番号（公開出願番号）：特開2007-047395
出願日： 2005年08月09日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：

【課題】 良好な厚膜レジストパターンを形成できるとともに、泡立ちが少ない現像液組成物を提供する。【解決手段】 支持体上に厚膜レジストパターンを形成するために用いられる現像液組成物であって、有機第四級アンモニウム塩基を主剤とし、ポリエチレンオキシド化合物、ポリプロピレンオキシド化合物およびエチレンオキシド・プロピレンオキシド付加物の中から選ばれる少なくとも1種の消泡剤とを含有することを特徴とする、厚膜レジスト用現像液組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

支持体上に厚膜レジストパターンを形成するために用いられる現像液組成物であって、 有機第四級アンモニウム塩基を主剤とし、ポリエチレンオキシド化合物、ポリプロピレンオキシド化合物およびエチレンオキシド・プロピレンオキシド付加物の中から選ばれる少なくとも1種の消泡剤とを含有することを特徴とする、厚膜レジスト用現像液組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/32 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/32 ,  H01L21/30 569E

Fターム (8件)：

2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096BA09 ,  2H096GA03 ,  2H096GA05 ,  2H096GA09 ,  2H096GA11 ,  5F046LA12

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第2589408号公報
  
• レジスト用現像原液および現像液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-097593   出願人：東京応化工業株式会社