レジスト用現像原液および現像液

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川洋子 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-097593
公開番号（公開出願番号）：特開平7-319170
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：

【要約】【目的】品質安定性に優れ、取り扱い、品質管理が容易な高濃度のレジスト用現像原液と、これを希釈して得られる、現像処理において低起泡性、消泡性に極めて優れるとともに、均一な濡れ性に優れ、かつマスクパターンに忠実なレジストパターンが形成できるレジスト用現像液とを提供する。【構成】金属イオンを含まない有機塩基と、重量平均分子量が100〜1000であって、ポリエチレンオキシド化合物、ポリプロピレンオキシド化合物およびエチレンオキシド・プロピレンオキシド付加物の中から選ばれる少なくとも1種とを配合してなるレジスト用現像原液、およびこの現像用原液を所要濃度に希釈してなるレジスト用現像液。

請求項（抜粋）：

所要濃度に希釈してレジスト用現像液を調製するための高濃度のレジスト用現像原液であって、金属イオンを含まない有機塩基と、重量平均分子量が100〜1000であって、ポリエチレンオキシド化合物、ポリプロピレンオキシド化合物およびエチレンオキシド・プロピレンオキシド付加物の中から選ばれる少なくとも1種とを含有することを特徴とする、レジスト用現像原液。

IPC (2件)：

G03F 7/32 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭63-170640
特公平4-051020
特公平4-051821

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