特許
J-GLOBAL ID:200903075386681681

溶接性、外観、製缶加工密着性に優れた容器用鋼板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-099478
公開番号(公開出願番号):特開2009-249691
出願日: 2008年04月07日
公開日(公表日): 2009年10月29日
要約:
【課題】絞りしごき加工、溶接性、耐食性、塗料密着性、フィルム密着性に優れた容器用鋼板。【解決手段】鋼板表面にNiを5〜150mg/m2 含むNiめっき層またはFe-Ni合金めっきを施した下地Ni層が形成され、その上に300〜3000mg/m2 のSnめっきが施され、溶融溶錫処理により、一部または全部の下地Ni層とSnめっき層の一部が合金化せしめられて島状のSnめっき層が形成され、Snめっきの上層に、還元に要する電気量として0.3〜5.0mC/cm2の酸化錫とP量として0.5〜5.0mg/m2のリン酸錫とを含む化成処理層、さらに該化成処理層の上層に金属Zr量で1〜500mg/m2のZr皮膜、P量で0.1〜100mg/m2のリン酸皮膜、C量で0.1〜100mg/m2のフェノール樹脂皮膜の内、2種以上を付与した溶接性、製缶加工性、外観に優れた容器用鋼板。【選択図】なし
請求項(抜粋):
鋼板表面に形成され、NiめっきまたはFe-Ni合金めっきを施したNiを5〜150mg/m2含む下地Ni層と、 前記下地Ni層の上に300〜3000mg/m2のSnめっきが施され、溶融溶錫処理により、前記下地Ni層の一部または全部と前記Snめっき層の一部が合金化されて前記Snめっき層の合金化していない残部から形成された島状のSnめっき層と、 前記Snめっき層の上層に形成され、還元に要する電気量として0.3〜5.0mC/cm2の酸化錫とP量として0.5〜5.0mg/m2のリン酸錫とを含む化成処理層と、 前記化成処理層の上層に形成され、金属Zr量で1〜500mg/m2のZr皮膜、P量で0.1〜100mg/m2リン酸皮膜、C量で0.1〜100mg/m2のフェノール樹脂皮膜のうち、2種以上を含むZr含有皮膜層と、 を有する、容器用鋼板。
IPC (2件):
C23C 28/00 ,  C25D 9/08
FI (2件):
C23C28/00 C ,  C25D9/08
Fターム (17件):
4K044AA02 ,  4K044AB02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA10 ,  4K044BA12 ,  4K044BA17 ,  4K044BA21 ,  4K044BB06 ,  4K044BB10 ,  4K044BB14 ,  4K044BC02 ,  4K044BC04 ,  4K044BC08 ,  4K044CA16 ,  4K044CA17 ,  4K044CA18 ,  4K044CA62
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (5件)
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