特許
J-GLOBAL ID:200903075386681681
溶接性、外観、製缶加工密着性に優れた容器用鋼板
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
亀谷 美明
, 金本 哲男
, 萩原 康司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-099478
公開番号(公開出願番号):特開2009-249691
出願日: 2008年04月07日
公開日(公表日): 2009年10月29日
要約:
【課題】絞りしごき加工、溶接性、耐食性、塗料密着性、フィルム密着性に優れた容器用鋼板。【解決手段】鋼板表面にNiを5〜150mg/m2 含むNiめっき層またはFe-Ni合金めっきを施した下地Ni層が形成され、その上に300〜3000mg/m2 のSnめっきが施され、溶融溶錫処理により、一部または全部の下地Ni層とSnめっき層の一部が合金化せしめられて島状のSnめっき層が形成され、Snめっきの上層に、還元に要する電気量として0.3〜5.0mC/cm2の酸化錫とP量として0.5〜5.0mg/m2のリン酸錫とを含む化成処理層、さらに該化成処理層の上層に金属Zr量で1〜500mg/m2のZr皮膜、P量で0.1〜100mg/m2のリン酸皮膜、C量で0.1〜100mg/m2のフェノール樹脂皮膜の内、2種以上を付与した溶接性、製缶加工性、外観に優れた容器用鋼板。【選択図】なし
請求項(抜粋):
鋼板表面に形成され、NiめっきまたはFe-Ni合金めっきを施したNiを5〜150mg/m2含む下地Ni層と、
前記下地Ni層の上に300〜3000mg/m2のSnめっきが施され、溶融溶錫処理により、前記下地Ni層の一部または全部と前記Snめっき層の一部が合金化されて前記Snめっき層の合金化していない残部から形成された島状のSnめっき層と、
前記Snめっき層の上層に形成され、還元に要する電気量として0.3〜5.0mC/cm2の酸化錫とP量として0.5〜5.0mg/m2のリン酸錫とを含む化成処理層と、
前記化成処理層の上層に形成され、金属Zr量で1〜500mg/m2のZr皮膜、P量で0.1〜100mg/m2リン酸皮膜、C量で0.1〜100mg/m2のフェノール樹脂皮膜のうち、2種以上を含むZr含有皮膜層と、
を有する、容器用鋼板。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (17件):
4K044AA02
, 4K044AB02
, 4K044BA06
, 4K044BA10
, 4K044BA12
, 4K044BA17
, 4K044BA21
, 4K044BB06
, 4K044BB10
, 4K044BB14
, 4K044BC02
, 4K044BC04
, 4K044BC08
, 4K044CA16
, 4K044CA17
, 4K044CA18
, 4K044CA62
引用特許:
出願人引用 (8件)
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特許第1571783号公報
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特許第1670957号公報
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特開平2-263523号公報
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審査官引用 (5件)
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ラミネート溶接缶用鋼板
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-030227
出願人:新日本製鐵株式会社
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特開昭52-075626
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特開昭52-103333
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