露光マスクおよび投影露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-252386
公開番号（公開出願番号）：特開平7-084357
出願日： 1993年09月14日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】マスクの熱吸収による非等方的な変形を回避し倍率変化の補正だけで良好な結像性能が得られるような露光マスクおよび該露光マスクを用いた投影露光方法を提供する。【構成】露光マスクは、被投影基板上に投影露光するための所定のパターンが形成された露光マスクであって、ガラス基板101と、該ガラス基板101の熱伝導率より実質的に高い熱伝導率を有し且つ前記ガラス基板の表面をほぼ全面に亘って覆うように形成され露光波長に対し透過性を有する熱伝導膜102層と、該熱伝導膜102に接するように形成されたパターン103層とを備えていることを特徴とする。また、本発明の投影露光方法は、上述の露光マスクを所定波長域の照明光で照明し、前記露光マスクに形成されたパターン103の像を投影光学系を介して被投影基板上に所定の結像特性で結像させる投影露光方法であって、前記照明光の吸収による前記露光マスクの熱変形量に応じて発生する前記結像特性の変化を補正することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被投影基板上に投影露光するための所定のパターンが形成された露光マスクにおいて、ガラス基板と、該ガラス基板の熱伝導率より実質的に高い熱伝導率を有し且つ前記ガラス基板の表面をほぼ全面に亘って覆うように形成され露光波長に対し透過性を有する熱伝導膜層と、該熱伝導膜に接するように形成されたパターン層とを備えていることを特徴とする露光マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/14 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 514 C

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開昭57-101827
特開昭62-035360
特開昭59-075253

全件表示

前のページに戻る