特許

J-GLOBAL ID：200903075464694574

酸・塩基混合物

発明者： 平野 徹治 ,  久野 信治 ,  木内 政行
出願人/特許権者： 宇部興産株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-195429
公開番号（公開出願番号）：特開2005-029497
出願日： 2003年07月11日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

【課題】比較的低い融点を有する酸・塩基混合物からなる新規なイオン伝導体、または、プロトン伝導体を提供する。【解決手段】塩基成分および酸成分、あるいは、どちらか一成分が、少なくとも2種類の化合物からなる混合物であって、塩基成分のうちの少なくとも1種類が特定の構造を有するイミダゾールであることを特徴とする酸・塩基混合物。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

塩基成分および酸成分、あるいは、どちらか一成分が、少なくとも2種類の化合物からなる混合物であって、塩基成分のうちの少なくとも1種類が、 化学式(1)

IPC (6件)：

C07D233/58 ,  H01B1/12 ,  H01G9/035 ,  H01G9/038 ,  H01M8/02 ,  H01M10/40

FI (6件)：

C07D233/58 ,  H01B1/12 Z ,  H01M8/02 M ,  H01M10/40 A ,  H01G9/00 301D ,  H01G9/02 311

Fターム (6件)：

5H026AA04 ,  5H026AA06 ,  5H026EE17 ,  5H029AJ06 ,  5H029AM09 ,  5H029HJ02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 金属用研磨液及び研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-383539   出願人：日立化成工業株式会社
• 特開平1-279871
  
• 酸・塩基混合物からなるイオン伝導体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-195428   出願人：宇部興産株式会社