マルチビーム走査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樺山亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-290904
公開番号（公開出願番号）：特開平11-125778
出願日： 1997年10月23日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：

【要約】【課題】光走査装置の設計上、不可避的に発生する走査線曲がりを設計の段階で補正できる全く新規なマルチビーム走査装置を実現する。【解決手段】光源側からの光束を光偏向器6により偏向させ、走査結像光学系7により被走査面上に光スポットとして集光させて光走査を行う光走査装置において、走査結像光学系が、走査線の曲がりを補正する補正反射面を有し、補正反射面は、この補正反射面の副走査断面内の固有傾きが、光走査装置固有の走査線の曲がりを補正するよう定められている。

請求項（抜粋）：

複数の発光源を有する光源側からの複数ビームを共通の光偏向器により偏向させ、複数の偏向ビームを、共通の走査結像光学系により、副走査方向に互いに分離した複数の光スポットとして被走査面上に集光させて複数ラインの同時走査を行うマルチビーム走査装置において、複数の偏向ビームの個々を被走査面上に光スポットして集光させる走査結像光学系が、走査線の曲がりを補正する補正反射面を有し、上記補正反射面は、副走査断面内の固有傾きが、少なくとも1つの偏向ビームのマルチビーム走査装置固有の走査線曲がりを補正するように、上記1つの偏向ビームの入射位置に応じて定められていることを特徴とするマルチビーム走査装置。

IPC (2件)：

G02B 26/10 , G02B 26/10 103

FI (3件)：

G02B 26/10 B , G02B 26/10 E , G02B 26/10 103

引用特許：

審査官引用 (7件)

光ビーム走査光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-003424 出願人：ミノルタ株式会社
特開昭52-049850
マルチビーム書込光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-108502 出願人：株式会社リコー

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