特許

J-GLOBAL ID：200903075536347416

プラズマ処理装置

発明者： 武内 稔公
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 昇 ,  原田 三十義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-088367
公開番号（公開出願番号）：特開2008-251233
出願日： 2007年03月29日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：

【課題】プラズマ処理における処理領域の周縁部に沿って処理済みガスを万遍なく吸引できるようにする。【解決手段】プラズマ生成部11の処理ガス噴出方向側にノズル部12を設ける。ノズル部12は、噴出方向に積層された複数のプレート31〜33,35で構成する。噴出口35aを囲む吸引路50として、互いに重なり合う2つのプレートの少なくとも一方の重なり面に幅広の凹溝部51,53を形成し、最先端側のプレート35及び他のプレート32,33にスリット又は整列孔からなる狭隘な貫通部52,54,55を形成する。凹溝部及び貫通部51〜55は、それぞれ処理領域19に沿うように延在されている。プレート35の貫通部55が、吸引路50の上流端の吸引口を構成するとともに処理領域19の周縁部を画成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理ガスを略大気圧の放電部に通して前記放電部の外部の処理領域へ噴き出し、被処理物に接触させるプラズマ処理装置において、 (a)互いの間に前記放電部を形成する一対の電極と、これら電極を保持するホルダとを含むプラズマ生成部と、 (b)前記プラズマ生成部の前記噴出方向の下流を向く先端側に設けられ、前記処理領域を画成する面と、前記放電部に連なるとともに前記処理領域画成面に開口する噴出口と、前記処理領域の周縁部のガスを吸引する吸引路とが形成されたノズル部と、を備え、 前記ノズル部が、前記噴出方向に積層された複数のプレートを有し、前記噴出方向の最も先端側のプレートが、前記処理領域画成面を有しており、 前記吸引路が、前記複数のプレートのうち互いに重なり合う2つのプレートの少なくとも一方の重なり面に形成された幅広の吸引凹溝部と、前記複数のプレートのうち前記最先端側のプレート及び他の少なくとも1つのプレートを貫通するスリット又は整列孔からなる狭隘な吸引貫通部とを含み、 前記吸引凹溝部及び吸引貫通部が、それぞれ前記処理領域の周縁部に沿うように延在されるとともに互いに連通されており、 前記最先端側のプレートの吸引貫通部が、前記噴出口から離れ、前記吸引路の上流端の吸引口を構成するとともに前記処理領域の周縁部を画成することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H05H 1/24 ,  H01L 21/306 ,  B08B 7/00

FI (3件)：

H05H1/24 ,  H01L21/302 101E ,  B08B7/00

Fターム (9件)：

3B116AA01 ,  3B116AB42 ,  3B116BB72 ,  3B116BC01 ,  3B116CD31 ,  3B116CD41 ,  5F004AA16 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-268000   出願人：セイコーエプソン株式会社