特許
J-GLOBAL ID：200903075540913540

毛髪化粧料

発明者：
鈴木 博

鈴木 博 について

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田草川 博

田草川 博 について

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宮前 雅子

宮前 雅子 について

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小山 隆

小山 隆 について

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大沼 克典

大沼 克典 について

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柿澤 恭史

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出願人/特許権者：
ライオン株式会社

ライオン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-430446
公開番号（公開出願番号）：特開2005-015462
出願日： 2003年12月25日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：
【課題】カラーリング、パーマ等によるダメージ毛に対して、なめらかさやうるおい感付与等の使用実感が高く、継続使用した場合でもべたつきや油っぽさ等の不具合を伴わない、ダメージ改善実感及び優れた使用感の持続する毛髪化粧料の提供。 【解決手段】 特定の重合度を有する、高分子量ジメチルポリシロキサン(A)、(B)及び低粘度シリコーン(C)を含有する毛髪化粧料において、(A)、(B)をそれぞれ単独で(C)により希釈するか、或いは(A)及び(B)をあらかじめ混合したうえで(C)により希釈したときに、(A)/[(A)+(C)]、(B)/[(B)+(C)]又は[(A)+(B)]/[(A)+(B)+(C)]で計算される各高分子量ジメチルポリシロキサン濃度が60重量%以下となるようにしたうえで、添加したことを特徴とする毛髪化粧料である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記の一般式(1)で表わされるジメチルポリシロキサン(A)、(B)、(C)を含有する毛髪化粧料において、(A)、(B)をそれぞれ単独で(C)により希釈するか、或いは、(A)及び(B)をあらかじめ混合したうえで(C)により希釈したときに、(A)/[(A)+(C)]、(B)/[(B)+(C)]又は[(A)+(B)]/[(A)+(B)+(C)]で計算される各高分子量ジメチルポリシロキサンの濃度が60質量%以下となるようにしたうえで、配合したことを特徴とする毛髪化粧料。
IPC (1件)：
A61K7/06
FI (1件)：
A61K7/06
Fターム (41件)：
4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC182 ,  4C083AC302 ,  4C083AC312 ,  4C083AC352 ,  4C083AC402 ,  4C083AC422 ,  4C083AC442 ,  4C083AC472 ,  4C083AC482 ,  4C083AC581 ,  4C083AC582 ,  4C083AC612 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC692 ,  4C083AC742 ,  4C083AD072 ,  4C083AD112 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083AD282 ,  4C083AD411 ,  4C083AD412 ,  4C083CC33 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD39 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE28 ,  4C083EE29 ,  4C083FF05
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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