特許
J-GLOBAL ID:200903075554151871
均質エッチング性を有するアルミニウム箔
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
奥村 茂樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-307504
公開番号(公開出願番号):特開2001-131782
出願日: 1999年10月28日
公開日(公表日): 2001年05月15日
要約:
【要約】【課題】 未エッチ部の発生しにくい均質エッチング性を有するアルミニウム箔を提供する。【解決手段】 このアルミニウム箔2は、温度500°C以上で最終焼鈍されたものである。箔2表面には、直径1〜5μmの金属粉であって、且つCa,Mg,Si,Fe及びNaよりなる群から選ばれた少なくとも2種以上の元素を含有する金属粉が実質的に存在しない。この箔2にエッチング処理することによって、電解コンデンサ用電極を得る。また、箔2を基板1に貼合し、箔2面に所定形状のマスキング3を施した後、エッチングすることにより、基板1上に所定形状の回路を形成したプリント配線板を得る。【効果】 箔2表面に、直径1〜5μmの特定の金属粉が存在しないため、エッチング処理しても、未エッチ部5が発生しない。従って、電解コンデンサ用電極に未エッチ部がなく、安心して、コンデンサに組み込める。
請求項(抜粋):
温度500°C以上で最終焼鈍されたアルミニウム箔であって、その表面に、Ca,Mg,Si,Fe及びNaよりなる群から選ばれた少なくとも2種以上の元素を含有する直径1〜5μmの金属粉が実質的に存在しないことを特徴とする均質エッチング性を有するアルミニウム箔。
IPC (4件):
C23G 1/14
, C25F 3/04
, H01G 9/055
, H05K 1/09
FI (4件):
C23G 1/14
, C25F 3/04 A
, H05K 1/09 A
, H01G 9/04 346
Fターム (22件):
4E351BB01
, 4E351BB30
, 4E351DD10
, 4E351GG11
, 4K053PA10
, 4K053PA11
, 4K053PA13
, 4K053QA05
, 4K053QA07
, 4K053RA08
, 4K053RA22
, 4K053RA35
, 4K053RA37
, 4K053SA04
, 4K053SA06
, 4K053SA17
, 4K053TA02
, 4K053TA03
, 4K053TA04
, 4K053TA06
, 4K053TA13
, 4K053YA07
引用特許: