表面処理方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-161881
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335316
出願日： 1997年06月04日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：

【要約】【課題】微細なホール内等の自然酸化膜も効率的に除去することができる表面処理方法を提供する。【解決手段】被処理体Wの表面に形成された自然酸化膜10を除去する表面処理装置において、N2 ガスとH2 ガスの混合ガスをプラズマにより活性化して活性ガス種を形成する工程と、該活性ガス種のダウンフローにNF3 ガスを添加してNF3 ガスを活性化する工程と、形成されたNF3 ガスの活性ガス種を被処理体の表面に晒してこれを前記自然酸化膜と反応させて保護膜82を形成する工程と、前記被処理体を所定の温度に加熱することにより前記保護膜を昇華させる工程とを備える。これにより、薬液を用いることなく、ホール内等の自然酸化膜を効率的に除去する。

請求項（抜粋）：

プラズマ形成部を有するプラズマ形成管と、該プラズマ形成管内にN2 ガスとH2 ガスを供給するプラズマガス導入部と、前記プラズマ形成管に接続されて、内部に被処理体を載置する載置台を設けた処理容器と、前記プラズマ形成管内をダウンフローする活性ガス種にNF3 ガスを添加するNF3 ガス供給部と、前記載置台を所定の温度に加熱する加熱手段とを備えたことを特徴とする表面処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/304 341 , H01L 21/205

FI (3件)：

H01L 21/302 N , H01L 21/304 341 D , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-256235
特開昭57-157525
特開昭59-061930

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