化学プラント用洗浄剤およびその洗浄方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤吉一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-287888
公開番号（公開出願番号）：特開2002-097494
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2002年04月02日
要約：

【要約】【課題】化学プラント内に付着した不溶性の汚れを、完全に除去し、かつ、作業上・環境上の制約のない、洗浄方法および洗浄剤を提供する【解決手段】化学プラント内に付着した不溶性汚れを洗浄するための洗浄剤であって、炭素数9〜18の芳香族炭化水素を80重量%以上含有し、蒸留性状における5%留出温度が150°C以上、95%留出温度が320°C以下であることを特徴とし、特には、その不溶性汚れが、ヘプタン不溶分を5%以上含み、トルエン不溶分を0.2%以上含み、かつ、動粘度(120°C)が500mm2/s以上である。

請求項（抜粋）：

化学プラント内に付着した不溶性汚れを洗浄するための洗浄剤であって、炭素数9〜18の芳香族炭化水素を80重量%以上含有し、蒸留性状における5%留出温度が150°C以上、95%留出温度が320°C以下であることを特徴とする化学プラント用洗浄剤。

IPC (5件)：

C11D 7/24 , B08B 3/08 , B08B 9/027 , B08B 9/08 , C11D 7/50

FI (5件)：

C11D 7/24 , B08B 3/08 Z , B08B 9/08 , C11D 7/50 , B08B 9/06

Fターム (11件)：

3B116AA47 , 3B116AB51 , 3B116CC05 , 3B201AA47 , 3B201AB51 , 3B201BB95 , 3B201CC21 , 4H003DA12 , 4H003ED04 , 4H003FA03 , 4H003FA45

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平2-095487
ウレタン洗浄剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-083545 出願人：株式会社ジャパンエナジー
エレクトロニクス用洗浄液
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-342878 出願人：山口日本電気株式会社, 徳山石油化学株式会社

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