特許
J-GLOBAL ID:200903075654753348
基板表面の欠陥検出方法およびその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-034803
公開番号(公開出願番号):特開2002-243651
出願日: 2001年02月13日
公開日(公表日): 2002年08月28日
要約:
【要約】【課題】 方向性を有した欠陥は、レーザビームの照射方向によっては散乱光が少なくなり、欠陥を検出することが困難であった。【解決手段】 集光輪帯レーザビーム11を基板表面上に照射して走査させることにより、欠陥6の方向性に依存しない基板表面の欠陥検出を実現し、検出時間の短縮とコストの低減を図る。
請求項(抜粋):
集光された輪帯状の光を基板表面に照射して投影輪帯を形成する工程と、前記輪帯状の光を基板表面を走査して前記投影輪帯からの散乱光を検出して、輪帯上の異物や欠陥を検出する工程とを有することを特徴とする基板表面の欠陥検出方法。
IPC (5件):
G01N 21/956
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, H01L 21/66
, H04N 17/04
FI (5件):
G01N 21/956 A
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, H01L 21/66 J
, H04N 17/04 Z
Fターム (28件):
2G051AA51
, 2G051AA90
, 2G051AB01
, 2G051AB07
, 2G051BA10
, 2G051BB07
, 2G051BB17
, 2G051CA04
, 2G051CB05
, 2G051DA07
, 2G051EA08
, 2G051EA14
, 2G051EA25
, 2H088FA11
, 2H088HA01
, 2H088MA20
, 2H090JC01
, 2H090JC18
, 2H090JD13
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106CA38
, 4M106CA41
, 4M106DB02
, 4M106DB08
, 4M106DJ04
, 5C061BB03
, 5C061CC05
引用特許:
審査官引用 (9件)
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特開平1-121739
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特開平1-121739
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特開平2-147845
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特開昭61-132845
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表面の異常を検査するための走査システム
公報種別:公表公報
出願番号:特願平8-517819
出願人:テンカーインスツルメンツ
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暗視野落射顕微鏡装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-346095
出願人:株式会社分子バイオホトニクス研究所
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マスク検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-168831
出願人:株式会社東芝
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特開平2-147845
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欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-010777
出願人:株式会社ニコン
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