特許
J-GLOBAL ID：200903075672001485

物体検出装置および基板処理装置

発明者：
西岡 賢太郎

西岡 賢太郎 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-338172
公開番号（公開出願番号）：特開2001-156156
出願日： 1999年11月29日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：
【要約】【課題】 チャタリングや処理液の泡による誤検出や処理液の結晶化による誤検知が発生しない物体検出装置と基板の搬送制御を確実に行なうことができる基板処理装置を提供する。こ【解決手段】 基板Wを検出するセンサ16、17は、基板Wとの接触により変位する振り子部材54と、振り子部材54に備えられた永久磁石62と、永久磁石62から受ける磁界の変化に応じて信号を出力する磁電変換素子であるホール素子62と、振り子部材54の一部と支軸52を液体に浸すことができる容器70と、容器70内に液体を供給する液供給管81と、容器70内の液面高さを一定に保つための排出管82とを備える。
請求項（抜粋）：
非検出物との接触により変位する変位部材と、該変位部材の変位を検出する変位検出手段と、内部に液体を収容して、前記変位部材の少なくとも一部をその液体に浸けるための液容器とを備えたことを特徴とする物体検出装置。
IPC (7件)：
H01L 21/68 ,  B23Q 17/00 ,  B65G 49/02 ,  G01B 7/00 ,  G01B 21/00 ,  H01L 21/304 648 ,  G01V 9/00
FI (8件)：
H01L 21/68 L ,  B23Q 17/00 B ,  B65G 49/02 H ,  G01B 7/00 J ,  G01B 21/00 B ,  G01B 21/00 C ,  H01L 21/304 648 G ,  G01V 9/00 C
Fターム (63件)：
2F063AA02 ,  2F063AA49 ,  2F063BA25 ,  2F063BA26 ,  2F063BB06 ,  2F063BC05 ,  2F063CA26 ,  2F063CA27 ,  2F063CA31 ,  2F063CA40 ,  2F063DA02 ,  2F063DA04 ,  2F063DB04 ,  2F063DC02 ,  2F063DD02 ,  2F063EB01 ,  2F063EB25 ,  2F063EB27 ,  2F063GA52 ,  2F063GA61 ,  2F063GA80 ,  2F063LA11 ,  2F063LA23 ,  2F063PA05 ,  2F063ZA01 ,  2F069AA02 ,  2F069AA06 ,  2F069AA98 ,  2F069BB14 ,  2F069BB15 ,  2F069BB17 ,  2F069CC07 ,  2F069DD09 ,  2F069DD13 ,  2F069DD30 ,  2F069GG01 ,  2F069GG06 ,  2F069GG21 ,  2F069GG62 ,  2F069HH04 ,  2F069HH30 ,  2F069JJ13 ,  2F069JJ22 ,  2F069KK05 ,  2F069KK10 ,  2F069LL04 ,  2F069MM04 ,  2F069MM34 ,  2F069NN00 ,  2F069PP06 ,  2F069RR01 ,  2F069RR03 ,  2F069RR07 ,  3C029EE04 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA12 ,  5F031JA22 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-124727   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭55-035220
  • 特開昭62-249070
審査官引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-124727   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭55-035220
  • 特開昭62-249070

前のページに戻る

TOP

BOTTOM