特許

J-GLOBAL ID：200903075692879037

アーク式イオンプレーティング装置

発明者： 岡崎 尚登 ,  大谷 聡
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231385
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059165
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】 平滑性の高い膜を広い面積に膜厚の均一性良く形成することのできるアーク式イオンプレーティング装置を提供する。【解決手段】 このアーク式イオンプレーティング装置は、真空容器20内に設けられていて基体24を保持するホルダ26を備えている。この真空容器20に、湾曲した輸送管36の一方端部が、ホルダ26上の基体24に向くように接続されている。輸送管36は、矩形の断面形状を有している。輸送管36の他方端部に、三台のアーク式蒸発源42が縦方向Yに三段に配置されている。各アーク式蒸発源42は、真空アーク放電によって陰極46を溶解させて陰極物質を含むプラズマを生成する。輸送管36の外周部に、輸送管36に沿って湾曲した磁界を形成する磁気コイル38が設けられている。この磁界によって、各アーク式蒸発源42で生成したプラズマは、真空容器20内の基体24の近傍へ導かれる。

請求項（抜粋）：

真空に排気される真空容器と、この真空容器内に設けられていて基体を保持するホルダと、実質的に矩形の断面形状を有する湾曲した管であって、その一方の端部が前記真空容器に、前記ホルダ上の基体に向くように接続された輸送管と、この輸送管の他方の端部に、その矩形断面の長辺に沿う方向に配置されていて、真空アーク放電によって陰極を溶解させて陰極物質を含むプラズマを生成する複数のアーク式蒸発源と、前記輸送管の外周部に設けられていて、当該輸送管に沿って湾曲した磁界を形成し、この磁界によって前記複数のアーク式蒸発源で生成したプラズマを前記真空容器内の基体の近傍へ導く磁気コイルとを備えることを特徴とするアーク式イオンプレーティング装置。

IPC (3件)：

C23C 14/32 ,  H01L 21/203 ,  H05H 1/50

FI (4件)：

C23C 14/32 B ,  C23C 14/32 E ,  H01L 21/203 S ,  H05H 1/50

Fターム (22件)：

4K029BA01 ,  4K029BA02 ,  4K029BA21 ,  4K029BA34 ,  4K029BB01 ,  4K029BD03 ,  4K029BD05 ,  4K029BD06 ,  4K029CA03 ,  4K029DB03 ,  4K029DB04 ,  4K029DB05 ,  4K029DB15 ,  4K029DD06 ,  5F103AA02 ,  5F103BB14 ,  5F103BB34 ,  5F103BB38 ,  5F103DD28 ,  5F103DD30 ,  5F103RR03 ,  5F103RR04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 陰極アーク放電を用いた薄膜蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-343165   出願人：三星電子株式会社
• 粒状蒸発物の混入を防止したアーク蒸着法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-221138   出願人：日新製鋼株式会社