特許

J-GLOBAL ID：200903075734257830

低反射性部品及びその製造方法並びに表示装置

発明者： 稲 村 昭人
出願人/特許権者： 株式会社北斗製作所
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-307549
公開番号（公開出願番号）：特開2006-119390
出願日： 2004年10月22日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】光学部品等の部品自体の光の反射率を低くして、部品の視認性向上や作動の際の省エネルギーを行う。【解決手段】ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を基材の一面に対して形成し、この基材の一面にメッキを被覆してナノ構造体を転写した後、メッキ層から基材を剥離し、剥離したメッキ層を焼成し、焼成したメッキ層を金型として用いて樹脂を射出成形することにより、射出成形された成形品の表面にナノ構造体を形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ピッチが30〜300nmの範囲内、深さが60〜400nmの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を有する光透過性フィルムと、この光透過性フィルムが片面または両面に積層される光透過部材とを備えていることを特徴とする低反射性部品。

IPC (8件)：

G02B 1/11 ,  B29C 33/38 ,  B29C 45/37 ,  B29C 59/04 ,  B32B 7/02 ,  G09F 9/00 ,  G09F 9/30 ,  H01J 5/16

FI (8件)：

G02B1/10 A ,  B29C33/38 ,  B29C45/37 ,  B29C59/04 C ,  B32B7/02 103 ,  G09F9/00 313 ,  G09F9/30 349Z ,  H01J5/16

Fターム (63件)：

2K009AA12 ,  2K009BB24 ,  2K009BB28 ,  2K009CC03 ,  2K009DD15 ,  4F100AK01A ,  4F100AK01C ,  4F100AK25 ,  4F100AT00A ,  4F100AT00B ,  4F100AT00C ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA06 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100DD07A ,  4F100DD07C ,  4F100EH36A ,  4F100EH36C ,  4F100EH362 ,  4F100GB41 ,  4F100JB14A ,  4F100JB14C ,  4F100JN01A ,  4F100JN01B ,  4F100JN01C ,  4F100JN06 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00C ,  4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH78 ,  4F202AJ02 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD04 ,  4F202CD12 ,  4F202CD30 ,  4F209AH73 ,  4F209AR11 ,  4F209PA04 ,  4F209PB02 ,  4F209PC01 ,  4F209PC06 ,  4F209PC08 ,  4F209PH06 ,  5C094AA02 ,  5C094BA29 ,  5C094BA31 ,  5C094BA43 ,  5C094ED01 ,  5C094ED12 ,  5G435AA02 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435FF06 ,  5G435HH03 ,  5G435HH04 ,  5G435HH05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 透明導電性膜の表面処理方法、かかる方法により表面改質された透明導電性膜、及び表面改質透明導電性膜を有する電荷注入型発光素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-046668   出願人：榊原剛, 森六株式会社