特許

J-GLOBAL ID：200903075736341480

熱処理装置および熱処理方法

発明者： 江原 幸治
出願人/特許権者： 信越半導体株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-044133
公開番号（公開出願番号）：特開2007-227461
出願日： 2006年02月21日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：

【課題】ウエーハ中心から周辺部まで均一な温度分布を維持しながら急速加熱することができる熱処理装置を提供する。【解決手段】少なくとも、被処理ウエーハの温度を測定する温度測定手段と、前記被処理ウエーハを加熱するランプ光源と、前記被処理ウエーハを該ウエーハの外周部で保持するサポートリングを有する熱処理装置であって、少なくとも前記温度測定手段は、前記被処理ウエーハの温度およびサポートリングの温度をそれぞれ独立して測定するものであり、該測定結果に基づいて前記被処理ウエーハおよび前記サポートリングをそれぞれ加熱する前記ランプ光源の供給電力を独立して制御するものであることを特徴とする熱処理装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも、被処理ウエーハの温度を測定する温度測定手段と、前記被処理ウエーハを加熱するランプ光源と、前記被処理ウエーハを該ウエーハの外周部で保持するサポートリングを有する熱処理装置であって、少なくとも前記温度測定手段は、前記被処理ウエーハの温度およびサポートリングの温度をそれぞれ独立して測定するものであり、該測定結果に基づいて前記被処理ウエーハおよび前記サポートリングをそれぞれ加熱する前記ランプ光源の供給電力を独立して制御するものであることを特徴とする熱処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/26

FI (2件)：

H01L21/26 T ,  H01L21/26 J

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-129405   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特許第2711239号公報
  
• 実用新案登録第3109840号公報