現像方法及び現像装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高月亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-160272
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198495
出願日： 1992年05月27日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】被現像体の被現像面であるレジスト面における現像液の温度の面内均一性を上げ、現像変化も小さく、現像速度が一定で、レジスト現像についてウェハー等の面内のレジスト線幅均一性を向上させることができる現像方法及び現像装置の提供。【構成】基体1上の露光済みレジスト1aを現像する方法であって、レジスト付基体1をその表面積に比較して小さな面積で基体に接触する支持部材2で支持し、レジスト上に供給された現像液3を、現像液を液の表面張力を利用して盛り上げる構成でレジスト上に溜めて現像を進行させる方法において、現像を進行させる工程を、レジスト1a上の現像液3の温度分布の広がりを抑制する構成で行う、露光済みレジストの現像方法及び現像装置。

請求項（抜粋）：

基体上の露光済みレジストを現像する方法であって、前記レジスト付基体をその表面面積に比較して小さな面積で前記基体に接触する支持部材で支持し、前記レジスト上に供給された現像液を、前記現像液を液の表面張力を利用して盛り上げる構成でレジスト上に溜めて現像を進行させる方法において、現像を進行させる工程と、レジスト上の現像液の温度分布の広がりを抑制する構成で行う、露光済みレジストの現像方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 502

FI (2件)：

H01L 21/30 361 L , H01L 21/30 361 K

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-124017
特開昭62-216229
特開平4-323658

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