特許
J-GLOBAL ID：200903075854604134
バルク状シリカ多孔体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 祥泰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-014634
公開番号（公開出願番号）：特開平10-194720
出願日： 1997年01月10日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：
【要約】【課題】 本発明は,光散乱が生じ難い大きなサイズを有し,かつ,均一かつ選択可能な細孔径を有し,光学機能性材料,電子機能性材料等に利用可能なバルク状シリカ多孔体の製造方法を提供すること。【解決手段】 原料であるアルコキシシラン,水及び界面活性剤を混合,反応させ,シリカ/界面活性剤複合体を形成する形成工程を行い,次いで,上記シリカ/界面活性剤複合体を密閉容器中で放置し,該複合体中におけるシリカ骨格の発達と多孔構造の形成を行う熟成工程を行い,次いで,上記シリカ/界面活性剤複合体を乾燥して,溶媒を除去し,該複合体を縮合させる乾燥工程を行い,次いで,上記シリカ/界面活性剤複合体を焼成し,該複合体より界面活性剤を除去し,シリカ多孔体となす焼成工程を行うこと。
請求項（抜粋）：
原料であるアルコキシシラン,水及び界面活性剤を混合,反応させ,シリカ/界面活性剤複合体を形成する形成工程を行い,次いで,上記シリカ/界面活性剤複合体を密閉容器中で放置し,該複合体中におけるシリカ骨格の発達と多孔構造の形成を行う熟成工程を行い,次いで,上記シリカ/界面活性剤複合体を乾燥して,溶媒を除去し,該複合体を縮合させる乾燥工程を行い,次いで,上記シリカ/界面活性剤複合体を焼成し,該複合体より界面活性剤を除去し,シリカ多孔体となす焼成工程を行うことを特徴とするバルク状シリカ多孔体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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