特許

J-GLOBAL ID：200903075855534296

ゴム変性スチレン系樹脂組成物

発明者： 山崎 寛樹 ,  高橋 哲也 ,  西野 広平 ,  新村 哲也
出願人/特許権者： 東洋スチレン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-270301
公開番号（公開出願番号）：特開2002-080542
出願日： 2000年09月06日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
要約：

【要約】【課題】透明性を向上させたときの耐衝撃性の低下を抑制することにより、透明性と耐衝撃性と剛性のバランスに優れたゴム変性スチレン系樹脂を提供する。【解決手段】ポリブタジエンの存在下、ビニル芳香族単量体をグラフト重合して得られるゴム変性スチレン系樹脂組成物であって、樹脂組成物中のポリブタジエン含有量RC(%)、ポリブタジエン粒子の中位径d(μm)、ポリブタジエン粒子の膨潤度SI、ゲル量G(%)、メタノール可溶分MS(%)、原料として用いるポリブタジエンのシス構造割合CC(%)の間に、式(1)の関係が存在し、かつポリブタジエン含有量が3重量%以上、ポリブタジエン粒子の中位径が0.4μm以上であることを特徴とするゴム変性スチレン系樹脂組成物。490/RC-22d+370d/G+7SI+CC+101((G-RC)/RC)-18MS≧390 (1)

請求項（抜粋）：

ポリブタジエンの存在下、ビニル芳香族単量体をグラフト重合して得られるゴム変性スチレン系樹脂組成物であって、以下の(a)〜(c)の特徴を有する、厚さ1mmにおける全光線透過率が65%以上であるゴム変性スチレン系樹脂組成物。(a)樹脂組成物中のポリブタジエン含有量RC(%)、ポリブタジエン粒子の中位径d(μm)、ポリブタジエン粒子の膨潤度SI、ゲル量G(%)、メタノール可溶分MS(%)、原料として用いるポリブタジエンのシス構造割合CC(%)の間に、式(1)の関係が存在する。490/RC-22d+370d/G+7SI+CC+101((G-RC)/RC)-18MS≧390 (1)(b)樹脂組成物中のポリブタジエン含有量が3重量%以上である。(c)樹脂組成物中のポリブタジエン粒子の中位径が0.4μm以上である。

Fターム (7件)：

4J026AA68 ,  4J026AC11 ,  4J026AC15 ,  4J026AC36 ,  4J026BA04 ,  4J026BA05 ,  4J026GA01

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開平4-036305
  
• ゴム変性スチレン系樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-225741   出願人：電気化学工業株式会社
• ゴム変性スチレン系樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-127105   出願人：住友化学工業株式会社
• 特開平1-190742
  
• 特開平4-036305
  
• 特開平1-190742