特許

J-GLOBAL ID：200903075877459620

有機光電子及び電子装置の製造方法並びにこれによって得られた装置

発明者： ガナー,アレク ,  カチェイロ,マーティン
出願人/特許権者： ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド
代理人 (5件)： 大野 聖二 ,  森田 耕司 ,  田中 玲子 ,  山田 勇毅 ,  北野 健
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-581274
公開番号（公開出願番号）：特表2005-522000
出願日： 2003年03月21日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：

有機電子又は光電子装置の製造方法に関する。この方法は、基板(101,102)上のフッ素化ポリマー層(103)を積層し、リリーフパターンを形成するためにフッ素化ポリマーをパターン化し、溶液から基板(105,106)上に有機半導体又は導電性材料層を積層することを含む。フッ素化ポリマーはフッ素化フォトレジストであり得、有機半導体又は導電性材料を積層する前に紫外線及びオゾンを照射する処理がなされる。この方法は、特に、インクジェット印刷によって有機発光装置を製造する際に応用される。

請求項（抜粋）：

基板上にフッ素化フォトレジスト層を積層し、リリーフパターンを形成するために前記フッ素化フォトレジスト層をパターニングし、半導体又は導電性材料を前記基板上に積層することを含む有機半導体又は光電子装置の製造方法。

IPC (4件)：

H05B33/10 ,  H05B33/12 ,  H05B33/14 ,  H05B33/22

FI (4件)：

H05B33/10 ,  H05B33/12 B ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 Z

Fターム (7件)：

3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007EA00 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• EP0989778
  
• WO01/47043
  

審査官引用 (2件)

• 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-141177   出願人：出光興産株式会社
• パターン形成方法および装置並びにデバイスの製造方法およびデバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-081214   出願人：セイコーエプソン株式会社