特許
J-GLOBAL ID：200903010342480528

パターン形成方法および装置並びにデバイスの製造方法およびデバイス

発明者：
森 義明

森 義明 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-081214
公開番号（公開出願番号）：特開2003-283103
出願日： 2002年03月22日
公開日（公表日）： 2003年10月03日
要約：
【要約】【課題】 省資源、省エネルギーを図る。【解決手段】 洗浄・給液ヘッド22は、洗浄ヘッド部60と給液ヘッド部70とが一体に形成してある。洗浄液ヘッド部60は、有機物洗浄ユニット部62と無機物洗浄ユニット部64とリンスユニット部66と乾燥ユニット部68とを有する。有機物洗浄ユニット部62、無機物洗浄ユニット部64、リンスユニット部66は、第1洗浄液74、第2洗浄液80、純水88を、基板10のパターン形成領域108に選択的に供給して洗浄する。乾燥ユニット部68は、リンスされたパターン形成領域108に加熱空気96を吹き付けてパターン形成領域108を乾燥する。給液ヘッド部70は、洗浄されたパターン形成領域108に液体パターン材料102を選択的に供給する。
請求項（抜粋）：
液体吐出手段に形成された第1のノズル群により基板のパターン形成領域を洗浄する洗浄工程と、洗浄した前記パターン形成領域に前記液体吐出手段に形成された第2のノズル群により液体パターン材料を吐出してパターンを形成するパターン形成工程と、を有することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (6件)：
H05K 3/10 ,  H01L 21/304 643 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  H05K 3/26 ,  H05K 3/28
FI (6件)：
H05K 3/10 D ,  H01L 21/304 643 B ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  H05K 3/26 A ,  H05K 3/28 B
Fターム (22件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  5E314AA39 ,  5E314BB02 ,  5E314BB11 ,  5E314CC11 ,  5E314DD07 ,  5E314EE04 ,  5E314FF03 ,  5E314FF12 ,  5E314GG24 ,  5E343AA02 ,  5E343AA26 ,  5E343BB72 ,  5E343DD17 ,  5E343EE04 ,  5E343EE13 ,  5E343ER12 ,  5E343ER18 ,  5E343FF05 ,  5E343GG11
引用特許：
審査官引用 (4件)
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