特許
J-GLOBAL ID:200903075893033241

ソイルセメント地中連続壁の構築方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 磯野 道造
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-117859
公開番号(公開出願番号):特開2000-309919
出願日: 1999年04月26日
公開日(公表日): 2000年11月07日
要約:
【要約】【課題】 セメントを含む注入材を現位置土に注入して混合攪拌し、その後芯材を建込んでソイルセメント地中連続壁を構築する方法において、工程の連続化及び工程変更の柔軟化を図ることができ、特にTRD工法においては退避掘削を不要としたソイルセメント地中連続壁の構築方法を提供する。【解決手段】 セメントを含む注入材を現位置土に注入して混合攪拌し、その後芯材を建込んでソイルセメント地中連続壁を構築する方法において、対象地盤の土量1(m3)に対して注入する前記注入材を以下の配合としたことを特徴とするソイルセメント地中連続壁の構築方法。(1)ベントナイト: 0〜100(kg)(2)セメント :50〜400(kg)(3)超遅延剤 : 1〜 30(kg)(4)水溶性高分子: 0〜 5(kg)
請求項(抜粋):
セメントを含む注入材を現位置土に注入して混合攪拌し、その後芯材を建込んでソイルセメント地中連続壁を構築する方法において、対象地盤の土量1(m3)に対して注入する前記注入材を以下の配合としたことを特徴とするソイルセメント地中連続壁の構築方法。(1)ベントナイト: 0〜100(kg)(2)セメント :50〜400(kg)(3)超遅延剤 : 1〜 30(kg)(4)水溶性高分子: 0〜 5(kg)
IPC (8件):
E02D 5/20 101 ,  C04B 28/04 ,  C04B 14:10 ,  C04B 24:06 ,  C04B 24:38 ,  C04B103:22 ,  C04B103:44 ,  C04B111:00
FI (2件):
E02D 5/20 101 ,  C04B 28/04
Fターム (12件):
2D049EA02 ,  2D049GC11 ,  2D049GC13 ,  4G012MC02 ,  4G012PA06 ,  4G012PB17 ,  4G012PB26 ,  4G012PB29 ,  4G012PB31 ,  4G012PB40 ,  4G012PC05 ,  4G012PC08
引用特許:
審査官引用 (3件)

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