特許
J-GLOBAL ID：200903075908276855
XYステージの制御方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-117871
公開番号（公開出願番号）：特開平7-325623
出願日： 1994年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】【目的】 高精度、高価格な測長器等を使用せずに、従来の装置と同様な装置構成で、高精度な位置決めを行うこと。【構成】 予めパターンの位置座標を正確に測定して作成された基準マスクをXYステージ15上にセットする。そして、基準マスク上のパターン位置により定まる設計値に相当した量だけXYステージ15を駆動し、その時のXYステージ15の位置と基準マスク上に印されたパターン位置とのエラーを求め、このエラーから補正テーブル32aを作成し、記憶装置32等へ記憶する。XYステージ15を所定位置へ移動させる際、処理装置31は補正テーブル32aから所定位置に移動させるための補正量を求め、求めた補正量を用いてXYステージ15の駆動量を得る。処理装置31の出力は駆動回路34を介してモータD1〜D3に出力され、XYステージ15が駆動される。
請求項（抜粋）：
予めパターンの位置座標を正確に測定して作成された基準マスクをXYステージ上にセットし、基準マスク上に印されたパターンの位置座標により定まる設計値に相当した量だけXYステージを駆動して、その時のXYステージの位置と基準マスク上に印されたパターン位置とのエラーを求め、基準マスク上に印された各パターンについて求めた上記エラーから、XYステージを移動させる際の補正量を記憶した補正テーブルを作成し、XYステージを所定位置へ移動させる際、上記補正テーブルから所定位置における補正量を求め、求めた補正量を用いてXYステージを所定位置へ移動させるための駆動量を求めることを特徴とするXYステージの制御方法。
IPC (4件)：
G05D 3/12
, B23Q 1/62
, B23Q 15/22
, H01L 21/027
H01L 21/30 503 A
, B23Q 1/18 A
