特許

J-GLOBAL ID：200903076047765694

パターン描画方法及び描画装置

発明者： 平野 亮一 ,  立川 雄一 ,  三井 壮一郎 ,  小笠原 宗博 ,  東條 徹
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (7件)： 鈴江 武彦 ,  村松 貞男 ,  坪井 淳 ,  橋本 良郎 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  河井 将次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-382390
公開番号（公開出願番号）：特開2004-214415
出願日： 2002年12月27日
公開日（公表日）： 2004年07月29日
要約：

【課題】基板の裏面が所定の基準面に密着されたときのパターン形成面の位置ずれを加味した描画を行うことができ、ステッパ等を用いたパターン転写精度の向上に寄与する。【解決手段】基板保持部に保持された被描画基板に対して、エネルギービームにより所望パターンを描画するパターン描画方法であって、基板11を基板保持部12に保持した状態で、基板11のパターンを形成する面と対向する裏面の高さ位置の分布を測定し、測定された高さ位置の分布を基に、基板11の裏面が平坦面に矯正された状態で生じる、パターンを形成する面の位置ずれ量を計算し、計算された位置ずれ量に基づきパターンを描画する際のパターン描画位置を補正する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板保持部に保持された被描画基板に対して、エネルギービームにより所望パターンを描画するパターン描画方法であって、 前記基板を前記基板保持部に保持した状態で、前記基板のパターンを形成する面と対向する裏面の高さ位置の分布を測定し、測定された高さ位置の分布を基に、前記基板の裏面が任意の曲面又は平面に矯正された状態で生じる、前記パターンを形成する面の位置ずれ量を計算し、計算された位置ずれ量に基づき前記パターンを描画する際のパターン描画位置を補正することを特徴とするパターン描画方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 541D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 529

Fターム (6件)：

5F046BA07 ,  5F046CB19 ,  5F046CC11 ,  5F056AA01 ,  5F056CB25 ,  5F056EA15