微細シリカの製造方法及びこれによって得られる微細シリカ

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369466
公開番号（公開出願番号）：特開2002-173318
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【解決手段】オルガノハロシランのガスと、燃焼して水蒸気を発生する可燃性ガスと、遊離酸素を含有するガスとの混合ガスを、バーナーを通して反応室に供給し、上記オルガノハロシランを火炎加水分解して、更に酸化反応を経て、微細シリカを製造するに当り、上記燃焼して水蒸気を発生する可燃性ガスの混合量を、該可燃性ガス燃焼後の水蒸気量が化学等量の1〜6倍であり、オルガノハロシラン1モルに対して1/2〜9モルの割合となるようにし、かつ上記バーナーとして多重管バーナーを使用し、上記混合ガスを該バーナーの中心管ガス出口線速が標準状態換算で50〜120m/secとなるように該バーナーの中心管に供給することを特徴とする微細シリカの製造方法。【効果】本発明によれば、オルガノハロシランを原料とする微細シリカ製造において、比表面積が100〜400m2/gであり、1次粒子の粒度分布が狭い、シリコーン成型物としての透明性に優れる微細シリカを製造することができる。

請求項（抜粋）：

式R4-nSiXn(Rは水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基、Xはハロゲン原子を示し、nは1〜3の整数であるが、Rがフェニル基の場合、nは3である。)で示される少なくとも1種のオルガノハロシランのガスと、燃焼して水蒸気を発生する可燃性ガスと、遊離酸素を含有するガスとの混合ガスを、バーナーを通して反応室に供給し、上記オルガノハロシランを下記式(I) R4-nSiXn+(n/2)H2O → R4-nSiOn/2+nHX (I)(R,X,nは上記と同様である。)で示されるように火炎加水分解して、更に下記式(II) CiHjSiOn/2+{(2i+j/2)/2+(2-n/2)/2}O2 → iCO2+j/2H2O+SiO2 (II)(CiHjはR4-nの一般形であり、Rが水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基に応じてi=0〜6、j=1〜15の値となり、nは上記と同様であるが、Rがフェニル基の場合、nは3である。)で示される酸化反応を経て、微細シリカを製造するに当り、上記燃焼して水蒸気を発生する可燃性ガスの混合量を、該可燃性ガス燃焼後の水蒸気量が上記式(I)における化学等量の1〜6倍であり、オルガノハロシラン1モルに対して1/2〜9モルの割合となるようにし、かつ上記バーナーとして多重管バーナーを使用し、上記混合ガスを該バーナーの中心管ガス出口線速が標準状態換算で50〜120m/secとなるように該バーナーの中心管に供給することを特徴とする微細シリカの製造方法。

Fターム (9件)：

4G072AA26 , 4G072BB05 , 4G072HH28 , 4G072JJ03 , 4G072JJ11 , 4G072MM40 , 4G072RR05 , 4G072TT05 , 4G072UU09

引用特許：

審査官引用 (1件)

微細シリカの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-271722 出願人：信越化学工業株式会社

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