特許
J-GLOBAL ID：200903076071180354

電気光学装置及び電子機器

発明者：
林 建二

林 建二 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-103109
公開番号（公開出願番号）：特開2008-218423
出願日： 2008年04月11日
公開日（公表日）： 2008年09月18日
要約：
【課題】本発明は、酸素,水分等のガスや紫外線による電気光学層等の劣化を防止できるようにした電気光学装置の製造方法、及びこれにより製造された電気光学装置,電子機器を提供することを目的とする。【解決手段】基板20上に、第1の電極23,電気光学層60,第2の電極50を順に積層してなる電気光学素子を有する電気光学装置の製造方法であって、気相成長法により、上記基板20上に、上記電気光学素子を覆うように紫外線吸収層30を形成する工程と、プラズマ雰囲気を伴う気相成長法により、上記紫外線吸収層30を覆うようにガスバリア層40を形成する工程とを備える。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
基板上に、少なくとも第1の電極,電気光学層,第2の電極を順に積層してなる電気光学素子を有する電気光学装置の製造方法であって、 気相成長法により、上記基板上に、上記電気光学素子を覆うように紫外線吸収層を形成する工程と、 プラズマ雰囲気を伴う気相成長法により、上記紫外線吸収層を覆うようにガスバリア層を形成する工程とを備えたことを特徴とする、電気光学装置の製造方法。
IPC (8件)：
H05B 33/10 ,  G09F 9/00 ,  G09F 9/30 ,  H01L 27/32 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/22 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/02
FI (7件)：
H05B33/10 ,  G09F9/00 338 ,  G09F9/30 365Z ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 Z ,  H05B33/04 ,  H05B33/02
Fターム (27件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC21 ,  3K107CC23 ,  3K107CC27 ,  3K107CC42 ,  3K107CC43 ,  3K107DD11 ,  3K107DD89 ,  3K107DD90 ,  3K107EE21 ,  3K107EE48 ,  3K107EE50 ,  3K107FF15 ,  3K107FF16 ,  3K107FF19 ,  3K107GG02 ,  3K107GG06 ,  3K107GG28 ,  5C094AA31 ,  5C094BA27 ,  5C094DA13 ,  5C094GB10 ,  5G435AA14 ,  5G435BB05 ,  5G435GG16 ,  5G435KK05
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 有機EL素子
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-343635   出願人：出光興産株式会社
  • 電界発光灯
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-162537   出願人：関西日本電気株式会社
審査官引用 (9件)
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