特許
J-GLOBAL ID:200903076087243348
原子レベルのステップ高さスタンダード認証方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
深見 久郎 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-535894
公開番号(公開出願番号):特表2002-506217
出願日: 1999年03月10日
公開日(公表日): 2002年02月26日
要約:
【要約】走査プローブ顕微鏡法(62)をUL-SHS、すなわち超低ステップ高さスタンダード(63)および表面トポグラフィスタンダード(61)に対して用いてステップ(70)において用いるための方形波デューティサイクル(C)を定める。角度分解したスキャタロメトリ(65)をUL-SHS(63)に対して用いて両指向性反射率分布(66)を定め、その後、一次元のパワー密度関数(67)を定め、その後、空間周波数帯域幅におけるRMSラフネス(68)を定める。これおよび方形波デューティサイクル(C)から、ステップ高さ(69)が定められ、認証(70)が完了する。
請求項(抜粋):
ステップ高さ較正スタンダードを認証する方法であって、 前記スタンダードは概して平滑な反射表面を有するが前記表面上に規則的な特徴が形成される物理的人工品であり、前記規則的な表面特徴は一次元の方形波断面を有する交互の平行する平坦な線形メサおよび谷の周期的パターンであり、交互のメサおよび谷の前記パターンは100μmより小さい周期性またはピッチと、約50%であることがわかっているデューティサイクルと、最大100Åの特性ステップ高さとを有しており、前記認証する方法は、 角度分解したスキャタロメータを用いて表面特徴の前記周期的パターンから散乱した光に対して両指向性反射率分布関数(BRDF)を測定するステップと、前記BRDF測定からrmsラフネス(Rq)値を計算するステップと、 前記計算されたRq値および仮定された50%のデューティサイクルから前記スタンダード上の特徴の前記パターンの前記特性ステップ高さ(H)を定めるステップとを含み、前記スタンダードは前記定められた特性ステップ高さ(H)を有する前記規則的な表面特徴を有するものとして認証され、前記認証されたスタンダードによる後に較正するステップ高さ測定機器において用いられる、方法。
IPC (3件):
G01B 11/30 102
, G01N 13/16
, G01B 21/30 102
FI (3件):
G01B 11/30 102 Z
, G01N 13/16 A
, G01B 21/30 102
Fターム (32件):
2F065AA22
, 2F065AA24
, 2F065AA50
, 2F065AA51
, 2F065BB18
, 2F065CC19
, 2F065EE00
, 2F065FF00
, 2F065FF41
, 2F065FF61
, 2F065GG04
, 2F065GG22
, 2F065PP24
, 2F065QQ14
, 2F065QQ33
, 2F065QQ41
, 2F065QQ42
, 2F069AA42
, 2F069AA43
, 2F069AA49
, 2F069AA57
, 2F069AA61
, 2F069BB15
, 2F069CC06
, 2F069FF07
, 2F069GG04
, 2F069GG07
, 2F069GG11
, 2F069NN02
, 2F069NN06
, 2F069NN25
, 2F069NN26
引用特許:
引用文献:
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