特許
J-GLOBAL ID：200903076093909986
ナノグラファイト構造体の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-032593
公開番号（公開出願番号）：特開2003-238123
出願日： 2002年02月08日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】 そのサイズ、形状、作製位置を任意に選択することが可能な超微細加工特性を有する、任意な二次元または三次元形状を有するナノグラファイト構造体の作製方法の提供。【解決手段】 例えば、基板1上で、予めビーム励起反応により任意な超微細立体構造に作製したナノスケールのアモルファスカーボン構造体2に鉄等の触媒金属原子を含有させ、該立体構造体を低温熱処理して、含有されている触媒金属原子を利用した熱触媒反応によって、その立体構造形状を保持したまま、グラファイト構造3に変換することでナノグラファイト構造体を作製する方法。
請求項（抜粋）：
二次元もしくは三次元の任意なナノスケールの立体構造を有するナノグラファイト構造体を作製する方法であって、前記二次元もしくは三次元の任意な立体構造に対応するナノスケールの立体構造を有するアモルファスカーボン構造体であり、触媒金属原子を該構造体中に含有するか、あるいは表面に付着している立体構造体に対して、熱処理を施すことで前記アモルファスカーボンをグラファイト化して、該ナノスケールの立体構造形状を保持するグラファイト構造体へと変換する工程を含むことを特徴とするナノグラファイト構造体の作製方法。
Fターム (3件)：
4G046CA00
, 4G046CC03
, 4G046CC08
