特許

J-GLOBAL ID：200903076189020971

高圧噴射撹拌装置の噴射構造

発明者： 西尾 経
出願人/特許権者： 小野田ケミコ株式会社
代理人 (1件)： 衡田 直行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-086954
公開番号（公開出願番号）：特開2007-262699
出願日： 2006年03月28日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：

【課題】固化材スラリーをより収束した噴流として噴射して、固化材スラリーをより遠方まで到達させることができるとともに、簡易な構造を有し、低コストで容易に作製することができ、さらには、小径のロッドであっても適用可能な高圧噴射撹拌装置の噴射構造を提供する。【解決手段】地盤6中に固化材スラリー10を噴射して地盤6を切削すると共に、固化材スラリー10と改良対象土を混合撹拌して円柱状の地盤改良体8を造成するための高圧噴射撹拌装置1の噴射構造であって、固化材スラリー10の噴射口を形成するノズル9、及び、ノズル9の後端から上流側に向かって形成された、長さが70mm以上でかつ同一の直径の円形の断面形状を有する整流部を備えている高圧噴射撹拌装置の噴射構造。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

地盤中に固化材スラリーを噴射して地盤を切削すると共に、前記固化材スラリーと改良対象土を混合撹拌して円柱状の地盤改良体を造成するための高圧噴射撹拌装置の噴射構造において、 固化材スラリーの噴射口を形成するノズル、及び、該ノズルの後端から上流側に向かって形成された、長さが70mm以上でかつ同一の直径の円形の断面形状を有する整流部を備えていることを特徴とする高圧噴射撹拌装置の噴射構造。

IPC (1件)：

E02D 3/12

FI (1件)：

E02D3/12 102

Fターム (11件)：

2D040AA01 ,  2D040AB03 ,  2D040BA01 ,  2D040BA02 ,  2D040BC01 ,  2D040BD05 ,  2D040CB03 ,  2D040DA02 ,  2D040DA03 ,  2D040DA11 ,  2D040DA17

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 地盤内流体噴射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-242102   出願人：ライト工業株式会社
• 流体の射出ヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-292919   出願人：コンパニーデュソル
• 特開平2-197613
  
• 地盤改良装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-013263   出願人：株式会社日東テクノ・グループ, ヤマトボーリング株式会社

審査官引用 (3件)

• 特開平2-197613
  
• 地盤改良装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-013263   出願人：株式会社日東テクノ・グループ, ヤマトボーリング株式会社
• 地盤内流体噴射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-242102   出願人：ライト工業株式会社