特許
J-GLOBAL ID:200903076197372887

高ビーム品質レーザー

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-067606
公開番号(公開出願番号):特開2007-288166
出願日: 2007年03月15日
公開日(公表日): 2007年11月01日
要約:
【課題】 本願発明の課題は、レーザー共振器内にアパーチャや吸収体等を挿入することなしに、高品質な横モードを有するレーザーを得ることである。【解決手段】 レーザー遷移に関係している2準位のうち下準位が常温で熱励起のためかなり占有されている準3準位系で且つ非変形性のレーザー媒質を用いて、レーザー遷移の上準位を直接励起し、レーザー媒質の濃度や長さを大きくしてレーザー媒質の吸光度を2.0以上にする事により、高品質な横モードを有するレーザーを得ることが出来る。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
高品質な横モードを有するレーザー発振器であって、準3準位系で且つ非変形性のレーザー媒質を用い、レーザー遷移の上準位を直接励起し、レーザー媒質の吸光度を2.0以上にしたことを特徴とする高品質な横モードを有するレーザー発振器。
IPC (3件):
H01S 3/042 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/093
FI (3件):
H01S3/04 L ,  H01S3/00 B ,  H01S3/091 S
Fターム (7件):
5F172AE03 ,  5F172AE04 ,  5F172AE08 ,  5F172AE12 ,  5F172AF03 ,  5F172AF06 ,  5F172EE13
引用特許:
審査官引用 (3件)
引用文献:
審査官引用 (1件)
  • 上準位直接励起による受動モード同期Yb:YAGレーザー発振 Passively mode-locked Yb:YAG laser oscil

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