特許
J-GLOBAL ID：200903076245824620

斜めから光を照射するプロキシミティ露光方法

発明者：
鈴木 信二

鈴木 信二 について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-289041
公開番号（公開出願番号）：特開2000-122302
出願日： 1998年10月12日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：
【要約】【課題】 マスクに対して斜めから光を入射してもマスクパターンをワークの所定の領域に投影させることができるプロキシミティ露光方法を提供すること。【解決手段】 マスクパターンが形成されたマスクMに対し、ワークWを所定のギャップを設けて配置し、マスクMを介してワークWにランプハウス3から斜めから光を照射してマスクパターンをワークW上に露光する。制御装置10は、マスクMに対する光の入射角δと、マスクMへの光の照射角φ、マスクMとワークWの間のギャップ量Gとに基づき、マスクMに光を垂直に照射した場合のマスクパターンのワークW上の投影位置と、マスクMに斜めから光を照射した場合のマスクパターンのワークW上の投影位置とのずれ量を計算し、上記計算されたずれ量に基づきマスクMとワークWの位置合わせを行い、マスクパターンをワークW上に露光する。
請求項（抜粋）：
マスクパターンが形成されたマスクに対し、ワークを所定のギャップを設けて配置し、マスクを介してワークに斜めから光を照射してマスクパターンをワーク上に露光するプロキシミティ露光方法であって、光のマスクへの入射角と、照射角と、上記ギャップ量とに基づいてマスクに対するワークの位置合わせを行いマスクパターンをワーク上に露光することを特徴とするプロキシミティ露光方法。
IPC (3件)：
G03F 7/20 501 ,  G02F 1/1337 505 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/20 501 ,  G02F 1/1337 505 ,  H01L 21/30 509 ,  H01L 21/30 511
Fターム (23件)：
2H090HC11 ,  2H090HC13 ,  2H090HC18 ,  2H090MA15 ,  2H090MB14 ,  2H097CA12 ,  2H097GA45 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097KA28 ,  2H097LA12 ,  5F046AA04 ,  5F046BA02 ,  5F046CA01 ,  5F046DA17 ,  5F046DB05 ,  5F046DC04 ,  5F046EB01 ,  5F046EB05 ,  5F046FA17 ,  5F046FC05
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM