特許

J-GLOBAL ID：200903076248574161

二酸化炭素分離膜及びその製造方法

発明者： 大嶋 仁英 ,  積 洋二
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-012770
公開番号（公開出願番号）：特開平11-207160
出願日： 1998年01月26日
公開日（公表日）： 1999年08月03日
要約：

【要約】【課題】各種混合流体から二酸化炭素(CO2 )を分離する際、透過係数比(CO2 /N2 )及び二酸化炭素(CO2 )の透過率の特性に優れ、薄膜化が容易で、特に100°C以上の高温でも二酸化炭素(CO2 )を優先的に分離するのに好適な耐熱性に優れたシリカ質の二酸化炭素分離膜及びその製造方法を得る。【解決手段】シリコンのアルコキシドと、Si原子に直接結合した有機官能基を有するシリコンのアルコキシドと、ジルコニウムのアルコキシドと、アルカリ金属及びアルカリ土類金属のアルコキシドとの複合アルコキシドを作製し、該複合アルコキシドを加水分解して得た前駆体ゾルを無機多孔質体に塗布後、乾燥し、350〜600°Cの温度で焼成してシリカ質の二酸化炭素分離膜とする。

請求項（抜粋）：

シリコンのアルコキシドとジルコニウムのアルコキシド、及びアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のアルコキシドとをアルコール溶媒中で複合化した複合アルコキシドを加水分解して得た前駆体ゾルの焼成体から成ることを特徴とする二酸化炭素分離膜。

IPC (2件)：

B01D 71/70 500 ,  C01B 31/20

FI (2件)：

B01D 71/70 500 ,  C01B 31/20 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 気体分離膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-352675   出願人：東京瓦斯株式会社
• 二酸化炭素分離膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-206525   出願人：京セラ株式会社