成膜装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森本直之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-320128
公開番号（公開出願番号）：特開2004-158499
出願日： 2002年11月01日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：

【課題】ガス噴出ヘッドの各ノズルからのガス噴出状態が適正化されるとともに、コンパクトなガス噴出ヘッドを備えた成膜装置を提供する。【解決手段】処理空間1内のガス噴出ヘッド7には、被処理物5の表面に成膜を形成するノズル開口24,ノズル管22,23等が多数設けられ、ガス噴出ヘッド7には、各処理ガスA,Bがそれぞれ独立して導入される複数の拡散空間11A,11Bが設けられ、拡散空間11A,11Bを分離独立させる区画部材13A,13Bが設けられ、拡散空間11A,11Bで構成された拡散室12A,12Bを有する拡散室ユニット10A,10Bが、積層された状態で存在しており、各拡散空間11A,11Bからそれぞれの処理ガスA,Bに対応するノズルに対して処理ガスが供給されるように構成されている。これにより、各処理ガスが独立した流路を経て被処理物5に噴射され、良好な品質の成膜が形成される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

処理空間内に複数種類の処理ガスを供給するガス噴出ヘッドを有し、上記処理ガスにより被処理物の表面に成膜を行なう成膜装置であって、上記ガス噴出ヘッドには、被処理物側に面するヘッド面に各処理ガスを独立して噴出させるノズルがそれぞれ多数設けられ、上記ガス噴出ヘッドには、各処理ガスがそれぞれ独立して導入される複数の拡散空間と、上記拡散空間を分離独立させる区画部材とを含み、上記拡散空間が導入された処理ガスの拡散室に形成された拡散室ユニットが、積層された状態で存在しており、上記各拡散空間からそれぞれの処理ガスに対応するノズルに対して処理ガスが供給されるように構成されていることを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：

H01L21/31 , C23C16/455

FI (2件)：

H01L21/31 B , C23C16/455

Fターム (13件)：

4K030EA03 , 4K030EA04 , 4K030EA05 , 4K030EA06 , 4K030JA10 , 4K030KA25 , 4K030KA41 , 5F045AA03 , 5F045AB31 , 5F045DP02 , 5F045DQ10 , 5F045EF02 , 5F045EF08

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-255620
色補正回路
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-209575 出願人：日本ビクター株式会社
ガス噴射ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-313752 出願人：株式会社荏原製作所

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