特許

J-GLOBAL ID：200903076367885574

処理装置

発明者： 吉川 孝之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-018299
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204427
出願日： 1998年01月16日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】 排気・排液の排出経路を極力短くして排出効率を向上すると共に、メンテナンス性を向上した処理装置を提供すること。【解決手段】 処理装置は、搬送路ユニット15と、これらの両側に設けられ、基板Gに対して各種処理を施す複数の処理ユニット21〜29と、搬送路ユニット15,16の中を移動し、基板Gを載置して搬送するとともに各処理ユニットの間で基板Gの受け渡しを行う主搬送装置18と、各処理ユニットから排気または排液を行う排出経路60とを具備する。排出経路60は、搬送路ユニット15の筐体15aの下方に配置されている。

請求項（抜粋）：

搬送路ユニットと、搬送路ユニットの両側に設けられ、被処理体に対して各種処理を施す複数の処理ユニットと、前記搬送路ユニットの中を移動し、被処理体を載置して搬送するとともに各処理ユニットの間で被処理体の受け渡しを行う搬送装置と、前記各処理ユニットから排気または排液を行う排出経路とを具備し、前記排出経路は、前記搬送路ユニットの筐体の下方に配置されていることを特徴とする処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/30 561 ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/68 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-084610   出願人：東京エレクトロン株式会社