特許

J-GLOBAL ID：200903048064881840

処理装置

発明者： 立山 清久 ,  太田 義治 ,  田上 公一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-084610
公開番号（公開出願番号）：特開平9-244259
出願日： 1996年03月13日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 被処理体の搬送路に対して各種処理液により被処理体に順次処理を施す処理手段を自在に入れ替えることができる新規な処理装置を提供する。【解決手段】 被処理体の搬送路11,11aの左右に、各種処理液により被処理体であるLCD基板Gを処理する各種処理手段をそれぞれ配設した処理装置において、各種処理手段にそれぞれ移動のためのキャスタ50を設けると共に、搬送路11,11aと各種処理手段とに互いを着脱自在に連結するジョイント手段52を設け、搬送路11,11aの床下に各種処理装置の排液排出管41と着脱自在に連結する排液回収管53を設ける。これによりLCD基板Gの搬送路11,11aに対する各種処理手段の位置を変更して組み替えることができ、工程所要時間を短縮することができる。

請求項（抜粋）：

被処理体の搬送路の左右に、各種処理液により被処理体を処理する各種処理手段をそれぞれ配設してなる処理装置において、上記各種処理手段に、それぞれ移動のための走行手段を設けると共に、上記搬送路と上記各種処理手段とに互いを着脱自在に連結するジョイント手段を設け、上記搬送路に、上記各種処理手段の排液排出口部と着脱自在に連結する排液回収管を設けたこと、を特徴とする処理装置。

IPC (5件)：

G03F 7/30 501 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68

FI (8件)：

G03F 7/30 501 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 567 ,  H01L 21/30 569 C

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 処理方法及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-174797   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 半導体洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-144324   出願人：株式会社日立製作所
• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-089142   出願人：国際電気株式会社
• 板状体の処理装置及び搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-108769   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-282563   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
• 特開昭60-084819