水処理制御システム

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：吉武賢次 , 永井浩之 , 岡田淳平 , 勝沼宏仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-126768
公開番号（公開出願番号）：特開2005-305328
出願日： 2004年04月22日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】オゾン注入量を最適化して、適切な水処理を行なうことができる水処理制御システムを提供する。【解決手段】水処理制御装置14は被処理水水質計21からの被処理水の水質指標と、オゾン処理水水質計24からのオゾン処理水の水質指標との差を水質指標の変化量として求める。この水質指標の変化量を被処理水の水質指標またはオゾン処理水の水質指標で除して水質指標変化率を求める。水処理制御装置14は、この水質指標変化率に基づいてオゾンガス注入装置19を制御して、オゾンガス注入量を調整する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理水を導入するオゾン処理槽と、オゾン処理槽にオゾンガスを注入してオゾン処理水を生成するオゾンガス注入装置と、被処理水の水質指標を測定する被処理水水質計と、オゾン処理水の水質指標を測定するオゾン処理水水質計と、被処理水水質計からの被処理水の水質指標と、オゾン処理水水質計からのオゾン処理水の水質指標との差を水質指標の変化量として求め、この水質指標の変化量を被処理水の水質指標またはオゾン処理水の水質指標で除した水質指標変化率に基づいてオゾンガス注入装置を制御してオゾンガス注入量を調整する水処理制御装置と、を備えたことを特徴とする水処理制御システム。

IPC (3件)：

C02F1/78 , G01N21/64 , G01N33/18

FI (3件)：

C02F1/78 , G01N21/64 Z , G01N33/18 Z

Fターム (23件)：

2G043AA01 , 2G043BA14 , 2G043CA03 , 2G043EA01 , 2G043GA07 , 2G043GB21 , 2G043KA02 , 2G043LA01 , 2G043NA01 , 2G043NA05 , 2G043NA06 , 4D050AA03 , 4D050AA13 , 4D050AA15 , 4D050AB03 , 4D050AB04 , 4D050AB07 , 4D050AB19 , 4D050AB55 , 4D050BB02 , 4D050BD06 , 4D050BD08 , 4D050CA17

引用特許：

出願人引用 (3件)

オゾンによる水処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-099690 出願人：富士電機株式会社
浄水処理方法及び浄水処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-038003 出願人：株式会社明電舎
オゾン処理装置及びオゾン処理方法並びに浄水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-045621 出願人：株式会社明電舎

審査官引用 (6件)

オゾン水処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-041153 出願人：富士電機株式会社
特開平4-225896
蛍光分析水質測定システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-282179 出願人：東芝エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝

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