感放射線組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-011293
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292915
出願日： 2000年01月20日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】半導体集積回路作製用のレジストにおいて、不溶性微粒子、気泡の混入をなくすことにより、優れたレジスト組成物を得る。【解決手段】塗膜形成樹脂、光酸発生剤及び溶媒を含有する感放射線組成物において、該感放射線組成物にさらにアルコールを塗膜形成樹脂に対して2重量%以下含有させる。

請求項（抜粋）：

塗膜形成樹脂、光酸発生剤、アルコール及び溶媒を含有する感放射線組成物であって、該アルコールの含有量が塗膜形成樹脂に対して2重量%以下であることを特徴とする感放射線組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , G03F 7/032 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , G03F 7/032 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (5件)

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