特許
J-GLOBAL ID:200903025873939557

化学増幅ポジ型レジスト材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-185812
公開番号(公開出願番号):特開平11-015163
出願日: 1997年06月26日
公開日(公表日): 1999年01月22日
要約:
【要約】【解決手段】 常圧760mmHgでの沸点が180°C以上のアルコール化合物を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。【効果】 本発明のレジスト材料は、PEBの雰囲気が空気気流中であっても、乾燥空気或いは乾燥窒素気流中であっても、良好にパターン形成することができる。
請求項(抜粋):
常圧760mmHgでの沸点が180°C以上のアルコール化合物を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。
IPC (5件):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027
FI (5件):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (12件)
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