特許
J-GLOBAL ID:200903025873939557
化学増幅ポジ型レジスト材料
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小島 隆司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-185812
公開番号(公開出願番号):特開平11-015163
出願日: 1997年06月26日
公開日(公表日): 1999年01月22日
要約:
【要約】【解決手段】 常圧760mmHgでの沸点が180°C以上のアルコール化合物を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。【効果】 本発明のレジスト材料は、PEBの雰囲気が空気気流中であっても、乾燥空気或いは乾燥窒素気流中であっても、良好にパターン形成することができる。
請求項(抜粋):
常圧760mmHgでの沸点が180°C以上のアルコール化合物を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。
IPC (5件):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/023 511
, H01L 21/027
FI (5件):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/023 511
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (12件)
-
特開平3-192361
-
パタン形成材料及びそれを用いたパタン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-280883
出願人:株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
-
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-323191
出願人:信越化学工業株式会社
-
レジスト塗布組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-059928
出願人:日本合成ゴム株式会社
-
ポジ型感光性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-246758
出願人:三菱化学株式会社
-
レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-115307
出願人:信越化学工業株式会社
-
レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-115308
出願人:信越化学工業株式会社
-
新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-173830
出願人:和光純薬工業株式会社
-
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-303235
出願人:日本ゼオン株式会社, 富士通株式会社
-
架橋されたポリマー
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-098487
出願人:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
-
橋かけポリマー
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-330237
出願人:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
-
パターン形成材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-351957
出願人:信越化学工業株式会社
全件表示
前のページに戻る