特許

J-GLOBAL ID：200903076675349527

遠紫外線用ポジ型レジスト組成物

発明者： 塘 洋一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 田治米 登 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-353795
公開番号（公開出願番号）：特開平9-185159
出願日： 1995年12月29日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】 ドライエッチング耐性に優れ、しかもL/Sが0.25μm未満となるような高い解像力を示す遠紫外線用ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (メタ)アクリル系ポリマー、光酸発生剤及び溶解抑止剤を含有する遠紫外線用ポジ型レジスト組成物において、溶解抑止剤として、ビタミンA類又はビタミンD類から選択される光消色性化合物の少なくとも1種を使用する。

請求項（抜粋）：

(メタ)アクリル系ポリマー、光酸発生剤及び溶解抑止剤を含有する遠紫外線用ポジ型レジスト組成物において、溶解抑止剤がビタミンA類又はビタミンD類から選択される光消色性化合物の少なくとも1種であることを特徴とする遠紫外線用ポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-300372   出願人：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-128606   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション