特許
J-GLOBAL ID：200903076680584151

溶解装置およびそれを用いた溶解方法

発明者：
小澤 竜司

小澤 竜司 について

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糸賀 康夫

糸賀 康夫 について

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湯本 芳明

湯本 芳明 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-047089
公開番号（公開出願番号）：特開2003-247783
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2003年09月05日
要約：
【要約】【課題】 太陽電池用多結晶シリコンの溶解装置において、装置の構造と機構に起因して鋳造装置が複雑化し、大型化するという問題があった。【解決手段】 るつぼの上部と側部に加熱手段を設け、このるつぼにシリコン原料を投入して上記加熱手段で溶解して底部に設けた出湯口から出湯する溶解装置であって、上記出湯口の径を2mmから10mmの範囲にするとともに、上記るつぼの上部の加熱手段と側部の加熱手段でるつぼ上部シリコン原料から下部のシリコン原料へ徐々に溶解して、上記出湯口から出湯する。
請求項（抜粋）：
るつぼに投入されたシリコン原料を加熱手段で加熱溶解して底部に設けた出湯口から出湯する溶解装置において、前記出湯口の径を2mmから10mmの範囲としたことを特徴とする溶解装置。
IPC (3件)：
F27B 14/18 ,  C01B 33/02 ,  F27D 3/14
FI (3件)：
F27B 14/18 ,  C01B 33/02 E ,  F27D 3/14 B
Fターム (21件)：
4G072AA01 ,  4G072BB12 ,  4G072GG03 ,  4G072GG04 ,  4G072HH01 ,  4G072MM40 ,  4G072NN01 ,  4G072UU01 ,  4K046AA01 ,  4K046AA07 ,  4K046BA05 ,  4K046CA03 ,  4K046CD02 ,  4K046CE05 ,  4K046CE08 ,  4K046EA02 ,  4K055AA04 ,  4K055BA05 ,  4K055HA07 ,  4K055JA13 ,  4K055JA17
引用特許：
審査官引用 (3件)

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