特許
J-GLOBAL ID:200903076701989025

薄膜圧電素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石井 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-139997
公開番号(公開出願番号):特開2000-332569
出願日: 1999年05月20日
公開日(公表日): 2000年11月30日
要約:
【要約】【課題】 従来に比べ桁違いに広帯域なFBARを実現できる薄膜圧電素子を提供する。【解決手段】 Si基板2上に、エピタキシャル膜である金属薄膜4を有し、この金属薄膜4上にPZT薄膜5を有し、このPZT薄膜5における原子比Ti/(Ti+Zr)が0.65から0.90の範囲にある薄膜圧電素子。
請求項(抜粋):
Si基板上に、エピタキシャル膜である金属薄膜を有し、この金属薄膜上にPZT薄膜を有し、このPZT薄膜における原子比Ti/(Ti+Zr)が0.65から0.90の範囲にある薄膜圧電素子。
IPC (5件):
H03H 9/17 ,  C30B 29/32 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/08 ,  H01L 41/187
FI (5件):
H03H 9/17 F ,  C30B 29/32 A ,  H01L 41/08 U ,  H01L 41/08 D ,  H01L 41/18 101 D
Fターム (12件):
4G077AA03 ,  4G077AA07 ,  4G077AB02 ,  4G077BC43 ,  4G077DA01 ,  4G077ED06 ,  4G077EF02 ,  5J108BB05 ,  5J108CC04 ,  5J108EE03 ,  5J108KK01 ,  5J108MM08
引用特許:
審査官引用 (3件)

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