特許
J-GLOBAL ID:200903076731455238

ポリマーデバイスの製造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 小谷 悦司 ,  伊藤 孝夫 ,  樋口 次郎 ,  原田 智裕
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-506242
公開番号(公開出願番号):特表2007-527542
出願日: 2004年05月12日
公開日(公表日): 2007年09月27日
要約:
(i)ポリマーまたはオリゴマーおよび架橋部分を含む溶液を基板上に成膜して層を形成する工程、および(ii)不溶性架橋化ポリマーを形成する条件下で工程(i)で形成された層を硬化する工程を備え、架橋部分が溶液中のポリマーまたはオリゴマーおよび架橋部分の繰返し単位のモル総数に対して0.05から5モル%の範囲の量で工程(i)に存在することを特徴とする、ポリマーデバイスを形成する方法。
請求項(抜粋):
(i)ポリマーまたはオリゴマーおよび架橋部分を含む溶液を基板上に成膜して層を形成する工程、および (ii)不溶性架橋化ポリマーを形成する条件下で工程(i)で形成された層を硬化する工程を備え、 架橋部分が溶液中のポリマーまたはオリゴマーおよび架橋部分の繰返し単位のモル総数に対して0.05から5モル%の範囲の量で工程(i)に存在することを特徴とする、 ポリマーデバイスを形成する方法。
IPC (7件):
G03F 7/008 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/40 ,  H01L 51/50 ,  G03F 7/032
FI (10件):
G03F7/008 ,  H01L29/78 618A ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 617T ,  H01L29/78 617V ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 310K ,  H01L29/28 310L ,  H05B33/14 B ,  G03F7/032
Fターム (44件):
2H025AA10 ,  2H025AA13 ,  2H025AB20 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BA07 ,  2H025BA08 ,  2H025CB19 ,  2H025CB41 ,  2H025CB47 ,  2H025DA40 ,  2H025FA15 ,  3K107AA01 ,  3K107CC45 ,  3K107DD60 ,  3K107DD61 ,  3K107GG06 ,  3K107GG11 ,  5F110AA01 ,  5F110AA16 ,  5F110CC03 ,  5F110CC05 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110EE01 ,  5F110EE08 ,  5F110EE42 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF05 ,  5F110FF27 ,  5F110FF35 ,  5F110GG05 ,  5F110GG25 ,  5F110GG28 ,  5F110GG29 ,  5F110GG42 ,  5F110GG57 ,  5F110GG58 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02
引用特許:
審査官引用 (4件)
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