特許

J-GLOBAL ID：200903076739895997

アンチレフレクティブコーティング及びその堆積の方法

発明者： デイヴィッド チュン ,  ジョー フェン ,  ジュディ エイチ. ウォン ,  ウェイ-ファン ヤウ
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-356530
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246180
出願日： 1996年12月05日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、アンチレフレクティブ層の堆積のための安定なプロセスを提供する。【解決手段】 ヘリウムガスを用いてプラズマ励起シラン酸化物プロセス、プラズマ励起シランオキシナイトライドプロセス及びプラズマ励起シランナイトライドプロセスの堆積速度を下げる。また、ヘリウムはプロセスを安定化するためにも用いられ、別々の膜を堆積できるようにした。本発明はまた、プロセスパラメータを制御して、所望の光学挙動を得るための最適な屈折率、吸収率及び厚さを変化させたアンチレフレクティブ層を生成する。

請求項（抜粋）：

処理チャンバ内でアンチレフレクティブ層の堆積中に、プロセスに対するプラズマの安定性を実現するための方法であって、前記プラズマ安定性は、均一な膜の堆積を確保するものであり、前記方法は、前記プロセスにある量の不活性ガスを添加して、所望のチャンバ圧力を実現するステップと、前記プロセスに添加する不活性ガスの前記量を制御して、前記処理チャンバの圧力を制御するステップとを有する方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  C23C 16/50 ,  G02B 1/11 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/02

FI (5件)：

H01L 21/30 574 ,  C23C 16/50 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/02 Z ,  G02B 1/10 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-116172
  
• 特開平2-267274
  
• 特開平4-290218
  
• 膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-238565   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド