特許

J-GLOBAL ID：200903076793243598

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  西山 文之 ,  丹 史郎 ,  河辺 保雅
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-324678
公開番号（公開出願番号）：特開平11-160866
出願日： 1997年11月26日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】 膜厚の変動に対する線幅のふれ幅(Swing幅)が小さく高い解像力を有し、かつ、従来両立しなかったハーフトーン位相差シフトマスク適性(サイドロープ光耐性)が良好であり、現像欠陥が少なく、残存定在波が少なく、レジスト性能が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂とアルカリ可溶性低分子化合物と、キノンジアジドスルフォン酸エステル感光剤として、特定の構造のフェノール性低分子化合物のキノンジアジドのジエステル体、および特定の構造のキノンジアジドの完全エステル体を各々特定の含有量で含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジドスルフォン酸エステル感光剤およびアルカリ可溶性低分子化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、キノンジアジドスルフォン酸エステル感光剤が(A)下記一般式[I]で表されるフェノール性水酸基を3〜6個有するフェノール性低分子化合物のキノンジアジドのジエステル体、および(B)下記一般式[II]又は[III-1]〜[III-3]で表されるキノンジアジドの完全エステル体を含有し、254nmの紫外線を使用した検出器を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーにおいて、感光剤の全パターン面積に対する該(A)のジエステル体のパターン面積の面積比が25%以上50%未満であり、かつ該(B)の完全エステル体の面積比が3%以上60%以下であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。一般式[I]【化1】(R1 〜R4 :同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アシル基を表し、R5、R6:同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基を表し、また、mが2以上の時、複数のR5又はR6の各々は同一でも異なっていてもよい、R7:ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基を表し、また、mが2以上の時複数のR7 の各々は同一でも異なっていてもよい、A:同一でも異なっていてもよく、単結合、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-CO2-、-C(R8)(R9)-、-N(R10)-、-N(R10)SO2-の単一あるいはこれらを複数組み合わせた基を表し、R8、R9:同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子を表し、また、R8とR9は互いに結合してシクロアルキル基を形成しても良い、R10:水素原子、アルキル基を表し、m:1〜4の整数)一般式[II]【化2】(R11〜R12:同一でも異なってもよく、-OQ(Qは下記のナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルフォニル基)を表し、【化3】R13〜R17:同一でも異なってもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、アシロキシ基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、シクロヘキシル基、もしくは-OQ(Qは前記と同義である)を表し、R18〜R21:同一でも異なってもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシロキシ基、シクロヘキシル基を表す。但し、式[II]中Qの個数は2個以上6個未満である。)一般式[III-1]〜[III-3]【化4】(Q:前記と同義である、R22:同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシロキシ基を表し、R23:同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基を表し、x:1〜3の整数を表しy:1〜6の整数を表す。)

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 感電離放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-318195   出願人：富士写真フイルム株式会社