特許
J-GLOBAL ID：200903076828192967

基板表面の洗浄方法

発明者：
藤 井 敏 昭

藤 井 敏 昭 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (1件)： 吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-091570
公開番号（公開出願番号）：特開2000-279904
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：
【要約】【課題】 基板の種類に関係なく、小型の装置で簡易に汚染された基盤表面を洗浄することができる方法を提供する。【解決手段】 基板表面を洗浄する方法において、少なくとも炭化水素を含む気体を、空間容積1m3当り50〜50000cm2の表面積で設置された光触媒6に、0.01mW/cm2〜10mW/cm2の紫外線5が照射されている空間内1で、該気体中の非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下に清浄化し、該気体を基板2表面に接触させることとしたものであり、前記紫外線が照射されている空間内に、さらに光電子放出材と電極を設置して、前記気体中の微粒子濃度をクラス10以下に清浄化することができ、前記紫外線の照射は、殺菌ランプで行うのがよく、前記空間には、不活性ガスを封入することができる。
請求項（抜粋）：
基板表面を洗浄する方法において、少なくとも炭化水素を含む気体を、空間容積1m3当り50〜50000cm2の表面積で設置された光触媒に、0.01mW/cm2〜10mW/cm2の紫外線が照射されている空間内で、該気体中の非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下に清浄化し、該気体を基板表面に接触させることを特徴とする基板表面の洗浄方法。
IPC (5件)：
B08B 5/00 ,  B03C 3/38 ,  B08B 7/00 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304
FI (5件)：
B08B 5/00 Z ,  B03C 3/38 ,  B08B 7/00 ,  H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/304 645 A
Fターム (9件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB44 ,  3B116BC01 ,  3B116CD00 ,  4D054AA14 ,  4D054BA17 ,  4D054BC02 ,  4D054EA30
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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