特許
J-GLOBAL ID：200903076830771842
成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
栗原 浩之
, 村中 克年
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-235889
公開番号（公開出願番号）：特開2009-070925
出願日： 2007年09月11日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：
【課題】短時間で、多数枚の基板に対し同時に両面成膜することができる成膜装置を提供する。【解決手段】成膜装置10は、排気手段3が設けられた成膜チャンバー1と、成膜チャンバー内に成膜ガスを導入するためのガス導入手段2と、鉛直方向に沿って立てて保持された一以上の基板S1〜S3からなる基板群の側方を囲み、上面及び下面が開放されている仕切り部材15とを備え、ガス導入手段と仕切り部材とが、成膜ガスが仕切り部材により囲まれた空間16内に導入されるように配置されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
排気手段が設けられた成膜チャンバーと、成膜チャンバー内に成膜ガスを導入するためのガス導入手段と、鉛直方向に沿って立てて保持された一以上の基板からなる基板群の側方を囲み、上面及び下面が開放されている仕切り部材とを備え、前記ガス導入手段と前記仕切り部材とが、成膜ガスが仕切り部材により囲まれた空間内に導入されるように配置されていることを特徴とする成膜装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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